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基于雙光子聚合(2PP)原理的3D微納加工屬于增材制造的一種。Nanoscribe是第一家將基于該原理的產(chǎn)品系列Nanoscribe Photonic Professional打印系統(tǒng)推向市場的科技公司。經(jīng)業(yè)內(nèi)認證的工業(yè)打印系統(tǒng) Quantum X 平臺能為從 2D 到 3D 的幾乎任何形狀結(jié)構(gòu)設(shè)計提供微納制造,以實現(xiàn)同類產(chǎn)品中最快、最精準的高精度增材制造。 ![]() | MLA 100 無掩模光刻儀MLA100的應(yīng)用領(lǐng)域包括生命科學(xué),微機電系統(tǒng),微光學(xué),半導(dǎo)體,傳感器,執(zhí)行器,微光機電系統(tǒng),材料研究,納米管,石墨烯,這任何一項應(yīng)用都需要微光顯示結(jié)構(gòu)。 |
![]() | DWL66+DWL66+激光光刻系統(tǒng)是一個經(jīng)濟的,高分辨率模式發(fā)生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統(tǒng)的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統(tǒng),生物微機電,微光學(xué),專用集成電路,微流體,傳感器,計算機全息技術(shù),還有其他的微型機構(gòu)的應(yīng)用。用DWL66+的客戶在世界范圍內(nèi)包含了超過150個領(lǐng)先的大學(xué)和研究設(shè)備處。這個系統(tǒng)的很多功能一直在與這些機構(gòu)進行密切的合作開發(fā)。 |
![]() | uPG 101uPG 101 是很經(jīng)濟,容易去用微型發(fā)生器進行直寫應(yīng)用和低容量掩模制作的一個系統(tǒng)。這個系統(tǒng)可運用的應(yīng)用有,微電子機械系統(tǒng)、生物微系統(tǒng)、集成光學(xué)、微流道或者其他需要高分辨率的微型系統(tǒng)。他的面積很小只有60*1875px^2,獨特的緊湊結(jié)構(gòu),使得所有的電子分量都可以完整的包含在這個系統(tǒng)中。個人電腦可以用來控制這個系統(tǒng),這個基于操作軟件的圖形用戶界面使用戶更容易去進行設(shè)計,生成目錄,自動對準和生成曝光。 |
![]() | 高分辨率3D打印系統(tǒng)主要特征 1.具有 100 nm 特征尺寸控制的高速高分辨率 3D 微納加工 2.廣泛的基板和晶圓,最大可達 8 英寸 3.工業(yè)批量處理:200 種典型的中尺度結(jié)構(gòu)可在一夜之間打印 4.通過花崗巖基層和減振實現(xiàn)高機械和熱穩(wěn)定性 5.個性化定制系統(tǒng),適用于廣泛應(yīng)用,是多用戶設(shè)施的理想選擇 |